Danantara dan GEM Teken HoA Senilai Rp23 T di Bidang Metalurgi Hijau

CEO Danantara Indonesia Rosan Roeslani.

JAKARTA (LB) – Badan Pengelola Investasi Daya Anagata Nusantara (Danantara Indonesia) lewat entitas investasinya Danantara Investment Management (DIM), mengumumkan penandatanganan Pokok Perjanjian atau Head of Agreement (HoA) dengan GEM Limited, perusahaan global asal  RRT di bidang metalurgi hijau dan solusi ekonomi sirkular.

Perjanjian menetapkan kerangka kerja untuk potensi investasi bersama dalam fasilitas peleburan High-Pressure Acid Leach (HPAL) dengan rencana kapasitas 66.000 ton nikel dalam endapan hidroksida campuran per tahun, yang diperkirakan bernilai 1,42 miliar dolar AS atau setara Rp23,11 triliun (kurs: Rp16.277 per dolar AS).

Chief Executive Officer (CEO) Danantara Indonesia Rosan Roeslani mengatakan, kemitraan dengan GEM Limited merupakan tonggak penting dalam misi Danantara Indonesia untuk mengkatalisasi investasi strategis yang mempercepat transformasi sosial-ekonomi Indonesia.

Dengan bekerja sama dengan pelopor global dalam metalurgi hijau, menurutnya, dapat memajukan agenda hilirisasi nasional sekaligus memastikan keberlanjutan dan inovasi tetap menjadi yang terdepan.

“Integrasi penelitian dan pengembangan, energi hijau, serta daur ulang siklus tertutup mencerminkan jenis proyek berdampak tinggi yang akan menciptakan nilai jangka panjang bagi Indonesia dan mitra investasi kami,”  kata Rosan dalam keterangan resmi di Jakarta, Rabu (27/8).

Kerja sama yang diproyeksikan bernilai sekitar Rp23,11 triliun ini, diharapkan melibatkan kolaborasi dengan PT Vale Indonesia Tbk (INCO), dengan potensi partisipasi dari mitra global lainnya.

GEM Limited dikenal luas atas komitmennya yang kuat terhadap pengembangan Sumber Daya Manusia (SDM), perusahaan telah menginvestasikan 30 juta dolar AS untuk bersama mendirikan laboratorium penelitian metalurgi mutakhir bekerja sama dengan Institut Teknologi Bandung (ITB), yang bertujuan memperkuat peran Indonesia sebagai pusat penelitian dan pengembangan.***

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *